Mikroskopische Untersuchung von Nanopartikel-beschichtetem Siliziumwafer zur Verbesserung der Halbleitereffizienz (2023, Deutschland)

Oberflächenmodifikation von Siliziumwafers: Nanotechnologie zur Verbesserung der Haftungseigenschaften für Halbleiteranwendungen

Makrofotografie einer mit Nanotechnologie behandelten Siliziumwafer-Oberfläche in einem Dresdner Labor

Mikroskopische Nanostrukturen auf Siliziumwafer: Fortschritte in der Nanotechnologie und Materialwissenschaften

Mikroskopische Aufnahme einer nanotechnologisch modifizierten Oberfläche mit geometrischem Muster und metallischer Beschichtung

Modernes Labor in Zürich: Einsatz von Nanotechnologie zur Oberflächenmodifikation mit Rasterkraftmikroskop (AFM)

Hochmoderne Reinraumumgebung in Schweizer Forschungszentrum: Wissenschaftler bedient Spin-Coating-Maschine zur Nanostrukturierung von Siliziumscheiben.